AG蚀刻液是一种用于半导体制造中的化学溶液，主要用于去除光刻胶或金属膜上的残留物，从而实现微细加工和图案定义。其功能和应用包括：去除光刻胶：在半导体制造过程中，光刻胶被用于定义芯片上的图案。AG蚀刻液可以有效地去除光刻胶的残留物，使得芯片上的图案清晰可见。去除金属膜：在一些工艺中，金属膜被用于制造电路或其他器件。AG蚀刻液可以去除金属膜上的残留物，从而实现精确的加工和定义。微细加工：AG蚀刻液可以实现微米级的加工，对于制造微电子器件和其他微细结构具有重要作用。图案定义：AG蚀刻液可以帮助定义芯片上的图案，使得芯片具有所需的功能和性能。总的来说，AG蚀刻液在半导体制造中起着重要的作用，能够帮助实现精密加工和图案定义，从而提高芯片的质量和性能。